ٹائیٹینیم راڈ کی سطح کے نقائد سے کیسے نمٹنا ہے؟

ٹائیٹینیم پلیٹ اور ٹائیٹینیم راڈ کی سطح پررد عمل کی پرت ٹائیٹینیم ورک پیکرز کی جسمانی اور کیمیائی خصوصیات کو متاثر کرنے والا اہم عنصر ہے۔ پروسیسنگ سے پہلے سطح کی آلودگی کی پرت اور نقص کی پرت کو مکمل طور پر دور کرنا ضروری ہے۔ ٹائیٹینیم پلیٹ اور ٹائیٹینیم راڈ کی جسمانی اور مشینی پالش کرنے کا عمل:

1۔ سنڈبلاسٹنگ:

ٹائیٹینیم وائر کاسٹنگ عام طور پر sandblasing کے لئے سفید کورندم کا انتخاب کرتی ہے۔ غیر قیمتی دھاتوں کے مقابلے میں لینڈبلاسٹنگ کا دباؤ کم ہوتا ہے اور عام طور پر اسے 0.45 MPa سے نیچے کنٹرول کیا جاتا ہے۔ کیونکہ جب سپرے کا دباؤ بہت زیادہ ہوتا ہے تو ریڈ کے ذرات ٹائیٹینیم کی سطح پر اثر انداز ہو کر شدید چنگاریاں پیدا کرتے ہیں اور درجہ حرارت میں اضافے سے ٹائیٹینیم کی سطح سے رد عمل ظاہر ہو کر ثانوی آلودگی بن سکتی ہے اور سطح کے معیار پر اثر انداز ہو سکتی ہے. وقت 15-30 سیکنڈ کا ہے اور کاسٹنگ کی سطح پر صرف چپکی ریتی، سطح کی سانٹرڈ پرت اور جزوی آکسائیڈ کی تہہ کو ہٹایا جا سکتا ہے. باقی سطحی رد عمل پرت کی ساخت کو کیمیائی چننے کے ذریعے تیزی سے ہٹا نا چاہئے۔

2۔ پکلنگ:

پکلنگ تیزی سے اور مکمل طور پر سطح کے رد عمل کی پرت کو ہٹا سکتا ہے، اور سطح دوسرے عناصر کی طرف سے آلودہ نہیں ہو گی. ایچ ایف ایچ سی ایل سیریز اور ایچ ایف ایچ نمبر3 سیریز دونوں ہی ٹائٹینیم کے چننے کے لئے استعمال کیے جا سکتے ہیں، لیکن ایچ ایف ایچ سی ایل سیریز کے چننے والے مائعات میں ہائیڈروجن جذب کرنے کی صلاحیت زیادہ ہے، جبکہ ایچ ایف ایچ ایچ ایس او 3 سیریز چننے والے مائعات میں ہائیڈروجن کا جذب چھوٹا ہوتا ہے اور وہ HNO3 کو کنٹرول کر سکتا ہے HNO3 کا ارتکاز ہائیڈروجن جذب کو کم کرتا ہے اور سطح کو روشن کر سکتا ہے. عام طور پر ایچ ایف کا ارتکاز تقریبا 3٪-5 فیصد ہوتا ہے اور ایچ نمبر3 کا ارتکاز تقریبا 15٪-30 فیصد ہوتا ہے.

ٹائٹینیم پلیٹ اور ٹائیٹینیم راڈ کی سطح پرت کو ری ایکشن لیئر کو ری ایکشن لیئر کو ریسیپٹنگ کے بعد پکلنگ کے طریقے سے مکمل طور پر ہٹایا جاسکتا ہے۔

جسمانی اور میکانکی پالش کے علاوہ ٹائیٹینیم پلیٹوں اور ٹائیٹینیم راڈ کی سطح پر دو طرح کی ری ایکشن پرتیں ہیں: 1. کیمیائی پالش اور 2. برقی پاش کاری .

1. کیمیائی پالش:

سطح اور پالش کا مقصد کیمیائی پالش کے دوران کیمیائی میڈیم میں دھات کی تکسید میں کمی کے رد عمل کے ذریعے حاصل کیا جاتا ہے۔ اس کا فائدہ یہ ہے کہ کیمیائی پالش کا دھات کی سختی، پالش کرنے والے علاقے اور ساخت کی شکل سے کوئی تعلق نہیں ہے۔ پالش کرنے والے مائع سے رابطے میں تمام حصوں کو پالش کیا جاتا ہے، کسی خاص پیچیدہ آلات کی ضرورت نہیں ہوتی اور آپریشن سادہ ہوتا ہے۔ یہ پیچیدہ ساخت ٹائٹینیم ڈینچر اسٹنٹ کو پالش کرنے کے لئے زیادہ موزوں ہے۔ تاہم کیمیائی پالش کے عمل پیرامیٹرز پر قابو پانا مشکل ہے اور ڈینچر کی درستگی کو متاثر کیے بغیر ڈینچر پر اچھی پالش کا اثر کرنا ضروری ہے۔ ایک بہتر ٹائیٹینیم کیمیکل پالش کرنے والا مائع ایچ ایف اور ایچ ایس او 3 کے ایک خاص تناسب سے تیار کیا جاتا ہے۔ ایچ ایف ایک کم کرنے والا ایجنٹ ہے، جو ٹائیٹینیم دھات کو تحلیل کر سکتا ہے اور سطح کا اثر کر سکتا ہے۔ ارتکاز 10 فیصد سے بھی کم ہے۔ HNO3 ٹائیٹینیم اور ہائیڈروجن جذب کی ضرورت سے زیادہ تحلیل کو روکنے کے لئے تکسیدی اثر رکھتا ہے۔ ، اس کے ساتھ ساتھ روشن اثر بھی پیدا کر سکتا ہے۔ ٹائیٹینیم پالش کرنے کے حل کے لیے زیادہ ارتکاز، کم درجہ حرارت اور کم پالش کا وقت درکار ہوتا ہے (1~2منٹ).

2۔ برقی پاش کاری:

اسے الیکٹرو کیمیکل پالشنگ یا انوڈک تحلیل پالش بھی کہا جاتا ہے۔ ٹائٹینیم الائی ٹیوب کی کم موصلیت کی وجہ سے تکسیدی کارکردگی بہت مضبوط ہوتی ہے۔ پانی پر مشتمل تیزاب الیکٹرولائٹ کا استعمال جیسے HF-H3PO4, HF H2SO4 الیکٹرولائٹ مشکل سے ٹائیٹینیم پالش کر سکتا ہے. بیرونی وولٹیج کے بعد ٹائٹینیم ایوڈ کو فوری طور پر آکسیڈائز ڈکیا جاتا ہے جس سے انوڈ کی تحلیل ناممکن ہو جاتی ہے. تاہم کم وولٹیج کے تحت انہائیڈروس کلورائیڈ الیکٹرولائٹ کا استعمال ٹائیٹینیم پر اچھا پالش کرنے کا اثر انداز ہوتا ہے. چھوٹے چھوٹے نمونہ آئینہ پالش کیا جا سکتا ہے، لیکن پیچیدہ بحالی کے لئے، مکمل پالش کا حصول اب بھی ممکن نہیں ہے. شاید آپ کیتھوڈ کی شکل تبدیل کرسکتے ہیں اور کیتھوڈ شامل کرسکتے ہیں اس طریقے کا مزید مطالعہ کرنے کی ضرورت ہے جو اس مسئلے کو حل کرسکتے ہیں۔